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當前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >    >  甩帶爐  >  KSD-0.02微型真空甩帶爐介紹

微型真空甩帶爐介紹

簡要描述:微型真空甩帶爐介紹
實現(xiàn)大批量生產(chǎn),提高生產(chǎn)率。 全程液晶顯示,PLC自動控制,操作簡單明了。 使用IGBT固態(tài)恒功率中頻感應電源,高效節(jié)能。

  • 產(chǎn)品型號:KSD-0.02
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2023-05-26
  • 訪  問  量: 853

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詳細介紹

  微型真空甩帶爐介紹主要由加熱室、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)三部分組成。其中,加熱室通常采用電阻式或電感式加熱方式,通過高溫爐芯將加熱管與加熱室隔離,從而實現(xiàn)加熱室內(nèi)的恒定高溫。真空系統(tǒng)則包括真空泵、真空計、閥門等組件,可以實現(xiàn)對加熱室內(nèi)的真空度進行精確控制??刂葡到y(tǒng)則負責監(jiān)測和調(diào)節(jié)加熱室內(nèi)的溫度、真空度等參數(shù),以保證熱處理過程的穩(wěn)定性和可靠性。
 
  在使用微型真空甩帶爐進行工藝處理時,需要先將待處理材料放置在石英舟或陶瓷舟中,然后將舟載入加熱室內(nèi)。接下來,打開真空系統(tǒng),將加熱室內(nèi)的氣體抽出,直到達到所需的真空度。最后,啟動加熱系統(tǒng),將加熱室內(nèi)的溫度升至所需的高溫,并在一定時間內(nèi)進行保溫處理。完成處理后,關(guān)閉加熱系統(tǒng),等待加熱室冷卻后再打開真空系統(tǒng),取出處理好的材料。
 
  真空甩帶爐主要應用于薄膜的制備、熱解和燒結(jié)等領(lǐng)域。例如,在光電子器件制備中,常用真空甩帶爐對金屬和半導體材料進行熱處理,以改善材料的電學性能和光學特性。在高分子材料領(lǐng)域,真空甩帶爐則可以用于烘干、熱解和燒結(jié)等工藝,以提高材料的密度和穩(wěn)定性。
 
  微型真空甩帶爐介紹特點
  1·爐體全不銹鋼設(shè)計,外形美觀大方,不生銹。
  2·采用立式側(cè)部開門結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)新穎,裝卸料方便,操作直觀。
  3 .配置大口徑觀察窗,可實時觀察爐內(nèi)的冶煉情況
  3·冶煉溫度高,溫度可1700度以上,
  4·采用專用IGBT高頻電源,靜音,熔煉效果好。
  5·采用兩級控制系統(tǒng)真空度高,可達5.0*10-3pa
  6配有操作模擬屏,操作直觀簡潔
  參數(shù)配置
  1. 甩帶系統(tǒng)采用伺服電機控制,克服普通變頻電機抖動,電機轉(zhuǎn)速不穩(wěn)的難題。
  擴展性強,可增加噴鑄澆鑄功能
  1.設(shè)備總功率:10Kw;
  2.電源電壓:單相220V,50Hz
  3.真空度:10Pa  5×10E-3Pa  6.7×10E-4Pa可選
  4.設(shè)備容量:5-20g  感應熔煉容量50-200g
  5.熔煉溫度0-1700 加石墨坩堝可達2100度以上
  6·坩堝配置:石英坩堝 BN坩堝 石墨坩堝
  7.真空泵組:飛越機械泵   機械泵+擴散泵 機械泵+分子泵 配置
  8.甩帶銅滾尺寸:φ220mmx40(不帶水冷)
  9.甩帶寬度: 1mm  6mm  10mm
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