1.實驗用小型真空燒結爐 設備用途

本系列真空爐為周期作業(yè)式，采用上開蓋結構桌面式設計、采用石墨管為發(fā)熱元件，適用于金屬材料，無機非金屬材料，在真空或保護氣氛下進行燒結適用，也可用于光學材料的燒結提純樣品測試分析等適用。

2.實驗用小型真空燒結爐 主要技術參數(shù)

3.1 電源：三相 380V 50Hz

3.2 加熱功率：4Kw ±10%（單相220V）

3.3 最高溫度：2000℃

3.4 額定溫度：0~1950℃

3.4 工作區(qū)尺寸：Φ40*40（D*H，mm）（實際工件擺放區(qū)）

3.5 控溫區(qū)數(shù)：一區(qū)

3.6 控溫方式：鎢錸熱偶控溫測溫

3.7 控溫精度：±1℃

3.8 冷態(tài)極限真空度：≤10Pa（空爐、冷態(tài)、烘烤除氣后）

3.9 充氣氣氛：惰性氣體

3.10 充氣壓力：≤0.05MPa

1. 結構及功能說明：

    設備采用桌面式立式上開蓋結構，設備整體設計，操作高度適中，操作方便，設備主要有爐蓋、爐體，底座、真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成。

6.1 爐蓋

爐蓋采用雙層不銹鋼（SUS304）水夾層平板結構，與法蘭組焊成一個整體。其中內壁精密拋光，外壁拉絲處理。爐門上設有冷卻水進出口、壓力表，放氣閥等快接接口。

6.2 爐體

爐體采用雙層不銹鋼（SUS304）水夾層架構，與上、下法蘭組焊成筒形結構，上下法蘭平面上開設有燕尾型密封槽，采用O型硅橡膠密封圈密封。爐內壁精密拋光，外壁拉絲處理。爐體側面設有冷卻水進出口、真空抽氣口、加熱電極接口，熱偶測溫接口等。

6.3 爐底

爐底采用雙層不銹鋼（SUS304）水夾層平板結構，與法蘭組焊成一個整體。其中內壁精密拋光，外壁拉絲處理。法蘭平面開設有燕尾型密封槽，采用O型硅橡膠密封圈密封。

6.4 爐架

爐架采用型材鈑金焊接作為骨架，并配合數(shù)控鈑金，組合成一個整體，作為整個設備的基礎。同時，一體式設計整齊美觀，操作方便。

6.5 加熱及隔熱系統(tǒng)

加熱采用高純石墨作發(fā)熱體，純度高，無揮發(fā)，有效保證爐腔內的清潔度。隔熱材料采用石墨成型纖維軟氈，保溫效果好，耐沖擊性好。整個隔熱屏采用金屬框架固定，便于安裝與維護。

溫度控制采用熱電偶直接控溫測溫。同時，在隔熱屏外設置一支監(jiān)控熱電偶，監(jiān)控隔熱屏外溫度，提高設備的安全使用性能。

6.6 真空系統(tǒng)

真空系統(tǒng)采用單級泵配置，由一臺VRD-16機械泵、手動高真空閥、充氣閥、放氣閥、真空壓力表、真空測量規(guī)管等組成，真空管道與泵的聯(lián)接采用金屬波紋管減緩震動，真空度的測量由真空計執(zhí)行。

6.8 充放氣系統(tǒng)

本設備配置一路充放氣系統(tǒng)，由電磁閥、手閥、、接頭等組成，可對爐內氣氛壓力進行控制。手閥可以根據實際情況，適當調整氣體流量。排出的氣體客戶可結合實際情況進行處理。

6.9 水冷裝置

水冷系統(tǒng)由一臺進出水總管道、閥門及各支路組成。冷卻水由總進水總管進入后，經過各支管送到爐門、爐體、爐底、水冷電極、真空泵、冷阱等這些需要冷卻水的地方，然后匯總到出水總管排出。總進水管路設有電接點壓力表，具有斷水聲光報警并切斷電源功能。各支路水管采用透明塑膠軟管，通過不銹鋼接頭聯(lián)接進出水總管道及設備各進出水口。每路冷卻水進水管都裝有手動閥門，可手動調節(jié)水流量大小。

6.10 控制系統(tǒng)：

     控制加熱系統(tǒng)有可控硅調壓器+低壓高流大功率變壓器+測溫裝置，組成閉環(huán)控制系統(tǒng)，溫度儀表采用程序儀表帶PID自動調節(jié)功能，帶自整定自我調整能力。穩(wěn)定可靠，控制精度高。設備整體配有操作觸摸屏和PLC,溫度數(shù)據，真空數(shù)據可記錄可下載。