快速退火爐是利用鹵素紅外燈做為熱源,通過極快的升溫速率,將晶圓或者材料快速的加熱到300℃-1200℃,從而消除晶圓或者材料內(nèi)部的一些缺陷,改善產(chǎn)品性能。
快速退火爐采用先進(jìn)的微電腦控制系統(tǒng),采用PID閉環(huán)控制溫度,可以達(dá)到*的控溫精度和溫度均勻性,并且可配置真空腔體,也可根據(jù)用戶工藝需求配置多路氣體。
快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進(jìn)氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成。
真空腔室:真空腔室是快速退火爐的工作空間,晶圓在這里進(jìn)行快速熱處理。
加熱室:加熱室以多個(gè)紅外燈管為加熱元件,以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。
進(jìn)氣系統(tǒng):真空腔室尾部有進(jìn)氣孔,精確控制的進(jìn)氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。
真空系統(tǒng):在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥,可以有效確保腔室真空度,同時(shí)避免氣體倒灌污染腔室內(nèi)的被處理工件。
溫度控制系統(tǒng):溫度控制系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器、電力調(diào)整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。
氣冷系統(tǒng):真空腔室的冷卻是通過進(jìn)氣系統(tǒng)向腔室內(nèi)充入惰性氣體,來加速冷卻被熱處理的工件,滿足工藝使用要求。
水冷系統(tǒng):水冷系統(tǒng)主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。